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水处理设备可以祛除哪些杂质?

  1、溶解的无机盐:有钠、钙、镁等盐类,溶于水形成正离子。含有这些离子的水冲洗半导体器件时,会使这些不纯物扩散到集成电路表面,造成短路。过去除去水中无机盐是将水蒸馏,但就是三次重蒸馏水,水的电阻率仅3兆欧—厘米,水中仍含有大于01ppm的NaCl。最近有用反渗透法去离子。

  所以要用离子交换树脂。阳离子交换脂和阴离子交换树脂分别使用,易于再生,混合床离子交换树脂用在离子交换的终级,起把关的作用。这样出来的水可达18兆欧—厘米(25摄氏度)。

状元彩票注册   2、溶解的有机物:有工业排出污物、洗涤剂、生物分解物和微生物的新陈代谢产物。这些可以用活性炭吸附方法除去。炭床要置于离子交换树脂之前,因活性炭本身会带来杂质。必须注意,进入树脂床的水要先除去有机物,因为离子交换树脂易为有机物(如腐殖酸)污染。反渗透可除去分子量大于300的有机物,分子量小于300的有机物可除去90%。

  3、粒子物质:很多地方都容易产生,如炭床、树脂床、深层过滤等一些设备。虽然用一些方法使达到高电阻率,但没有有效地除去粒子物质。这就会使半导体器件出现针孔、短路、断路、内部击穿和光致抗蚀剂脱落等缺陷。

  除去粒子物质,只有用膜滤,一般标准用孔径为0。45微米的微孔滤膜,特殊需要用孔径为0。22微米的微孔滤膜,除去胶体铁、胶体硅和小细菌。反渗透设备也能除去小粒子。

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时间:2019-10-29 编辑:admin 来源:http://www.kiteap.com 点击:

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